descrizione dettagliata:

Il sistema di monitoraggio del tasso di crescita della deposizione del film sottile utilizza la tecnologia laser non distruttiva per rilevare in-situ in tempo reale il tasso di deposizione del film sottile, lo spessore e le costanti ottiche (n&k).

Caratteristiche principali:

* Analisi in tempo reale del tasso di deposizione del film, dello spessore del film e delle costanti ottiche (n&k), insieme all'analisi statistica della deviazione standard;

* Calibrazione programmatica automatica;

* Sistema di feedback in tempo reale preciso;

* Controllo del programma, monitoraggio in tempo reale e controllo della deposizione di film sottile multistrato;

* Funzione di monitoraggio multi wafer;

* Funzione di monitoraggio e controllo della rotazione del substrato del wafer;

* Rilevazione in situ in tempo reale di tutti i parametri;

* Operazione e montaggio facili e convenienti;